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君桐资本热烈祝贺拓荆科技成功上市

北京时间2022年4月20日，拓荆科技股份有限公司（股票简称：拓荆科技，股票代码：688072）成功在上海证券交易所科创版挂牌上市。

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拓荆科技是国内唯一一家产业化应用的PECVD、SACVD薄膜设备厂商，是国内半导体设备行业的领军企业。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂 14nm 及以上制程集成电路制造产线，并已展开 10nm 及以下制程产品验证测试。拓荆科技首次公开发行3,169.98万股股份，募资超过20亿元人民币，用于高端半导体设备扩产项目、先进半导体设备的技术研发与改进项目、ALD设备研发与产业化项目以及补充流动资金。

君桐资本热烈祝贺拓荆科技成功登陆科创板，上市是新的征程，我们相信拓荆科技一定能够成长为半导体设备制造领域的“领头雁”！

关于拓荆科技

拓荆科技以”世界领先的薄膜设备公司“为愿景，凭借深厚的技术底蕴，强大的创新能力和数百项具有世界先进水平的自有知识产权，成为了国内唯一可提供整套集成电路制造用化学气相沉积薄膜设备的企业，能够与国际寡头直接竞争，打破了国际厂商对国内市场长期垄断的问题。公司产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储等国内主流晶圆厂产线并形成了稳定的合作关系，保障了企业长远健康发展。此外，拓荆科技正积极开拓国际市场机会，已与某国际领先晶圆厂建立业务联系，并实际发货设备至客户先进制程研发产线，为打开国际市场奠定了基础。

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