原子级制造是通过原子级增材、减材、等材技术制造原子级产品实现性能和功能跃迁的使能技术，对信息、新材料、生命健康等产业的发展具有战略支撑作用，是赋能新型工业化、建设制造强国的关键技术。原子级制造技术可以形成新质生产力，将为推动科学研究提供全新的手段和平台，将解决传统制造业面临的诸多瓶颈问题。
近日，2024（第一届）原子级制造论坛在北京举办。大会以“推动原子级制造技术发展，推动未来产业创新”为主题，汇聚来自国家自然科学基金委、工业和信息化部高新技术司、中国科学院、中国电子信息产业发展研究院，一众国内顶尖院校、先进制造厂商等行业主管部门、产业界、教育界和投资界的400余名代表。
原子层沉积（ALD）是一种基于表面自限反应实现材料逐原子层堆叠沉积的技术，可实现材料生长的原子级精度控制，已经发展成为原子级制造的一个重要分支。作为原子层沉积（ALD）的技术先锋，思锐智能受邀出席本次大会，并在演讲中分享ALD技术的工业应用现状及发展趋势。
“ALD设备是先进集成电路制造工艺中必不可少的薄膜沉积设备，在厚度和组分控制精度、均匀性、适应立体结构方面具有明显优势。特别在集成电路特征线宽发展到28纳米节点后，ALD工艺应用日益广泛。截至目前，包括集成电路（例如逻辑和存储芯片）、化合物半导体、图像传感器，以及光电子、光伏等新型工业领域均可受益于ALD。”
面向这一前沿市场，思锐智能推出了TransformTM系列工业量产型ALD全自动平台，可适配Si基集成电路成熟工艺、化合物半导体、光电子领域等需求，也可支持客户集成电路先进工艺研发，在欧洲、北美、日本和中国大陆及台湾等地区实现了重复订单，广受业界好评。
设备是制造业的基础，思锐智能提供覆盖工业和科研领域的原子层沉积装备产品，有助于原子级制造产业构建从研发阶段到规模化量产的新型生产线。与此同时，思锐智能通过多个渠道加强产学研用合作，推动创新链、产业链、资金链、人才链“四链”融合，加快推进新型工业化，赋能形成并发展先进程度跃迁的新质生产力。
