思锐智能ALD设备P800成功交付头部客户
近日，思锐智能原子层沉积（ALD）设备P800成功交付半导体制造头部企业。这一成果不仅彰显了思锐智能在ALD技术产业化应用上实现的重大突破，更标志着公司在半导体核心装备领域的发展迈上新的台阶。
随着全球半导体产业链重构加速，核心技术自主可控备受关注。思锐智能积极响应产业发展需求，持续深化ALD和IMP核心技术。此次P800设备的顺利交付，正是思锐智能凭借深厚的技术积累和高效的产业链协同能力赢得市场认可的体现。该设备不仅能满足客户多样化的应用需求，更将为国内半导体产业向更高水平发展提供了有力支撑。
作为一款经过多年生产验证的量产原子层沉积系统，P800单次可沉积数百纳米薄膜，并支持沉积多种薄膜材料。结构上，P800采用双腔结构设计，反应腔可快捷切换，提高生产效率，确保更长更有效的运行时间。目前，P800已成功在半导体核心零部件，光学器件等方向提供高质量的镀膜服务。其设备产能，薄膜厚度均匀性等方面表现出色，已获得国内多个客户的重复订单。
未来，思锐智能将依托本地化灵活的设备供应模式，与合作伙伴、客户共建有韧性的生态圈，为半导体产业链升级提供有利支撑。
