君桐资本祝贺拓荆科技科创板IPO注册获批
3月1日，中国证券监督管理委员会按法定程序同意拓荆科技股份有限公司（以下简称“拓荆科技”或“公司”）首次公开发行股票的注册申请。
拓荆科技是国内唯一一家产业化应用的集成电路 PECVD、SACVD 设备厂商，其聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积 （ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。拓荆科技公司产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、 厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂产线。
拓荆科技此次发行拟募集10亿元用于高端半导体设备扩产项目、先进半导体设备的技术研发与改进项目、ALD设备研发与产业化项目以及补充流动资金。致力于扩大公司现有生产基地的产能水平，为公司在上海临港新建研发生产场地。建立贴近市场、提供具有快速响应客户需求的研发生产能力。实现产品的产业化，进一步提升产品技术水平和拓展产品应用领域，推动公司业务规模的持续增长。
君桐资本热烈祝贺拓荆科技科创板IPO注册获批，并祝愿拓荆科技的未来越来越好！
